물품 구매규격서

<순><품 명><한글><건식 플라즈마 식각기><영문><Dry Plasma Etcher>

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<수량><1><단위><식><대표규격><50KHz, 1채널, 챔버 150x200x140 (mm) 10.1"Touch PC control, Power:200W>

<분류번호 (8자리)><23211198><수요부서><국립군산대학교 ICC특성화대학부 기계공학부><설치장소 (건물명등, 호실번호, 호실명칭 순)><공학2호관,9107호, 미세유체디바이스연구실>

<세부품명번호 (10자리)><2321119801>

A. 특징(Feature)

축전결합 플라즈마 방식의 높은 플라즈마 밀도를 보장하며, 반도체 기판 표면처리 및 플라즈마 에칭, 접합과 오염물제거 등이 가능한 플라즈마 시스템.

컴팩트한 사이즈의 장비이지만 유량조절기(MFC)와 Pirani Gauge, 300W 이상 고출력 제너레이터 등의 구성요소들을 임베디드 시스템을 통해 정밀 조정.

10.1“ 대화면 터치스크린을 통해 쉽게 공정조건들을 입력하고 전반적인 공정상황 제어 및 모니터링이 가능하며, 사용자가 지정한 공정 Recipe대로 운용할 수 있어 교육용 연구장비로서 최적화.

랭뮤어 플라즈마 진단서를 포함하고 실제 측정이 가능하여 균일도와 재현성까지 보장.

플라즈마 진단 랭뮤어 프로브 연결 가능한 장비.

플라즈마 제너레이터 내부온도는 장비 운전프로그램 화면에서 실시간 디지털값으로 표시되며 사용자는 운전중에도 온도 변화를 지속적으로 모니터링 함.0

제너레이터 설정온도 이상 발생 시 자동알람 신호를 출력하고, 장비 보호를 위해 운전 중 자동 중지 기능

압력 Display 는 Torr 또는 Pascal 로 가능함.

B. 규격 및 사양(Specification)

진공챔버 내부크기 : 150 x 200 x 140mm (WxDxH) 이상

전극구조 : 축전결합형 (반응성이온식각과 플라즈마식각 모드 모두 지원하는 평행한 2중 전극)

전극간거리 : 70mm 이상

관람창 : 130mm 이상

Electrode chuc