물 품 규 격 서

번호	품명 (국문, 영문)	단위	수량	물품분류번호	비고
1	전기화학 원자힘 현미경 Electro-Chemical Atomic Force Microscope	set	1	4111172401

Ⅰ. 장비 개요

1. 본 장비는 원자 간 상호작용력을 이용하여 시료 표면의 형상 및 물성을 나노미터(nm) 수준에서

3차원으로 측정·분석할 수 있어야 한다.

2. 대기, 액상 및 진공 환경에서 도체, 반도체, 절연체 등 다양한 시료의 표면 형상 및 물성을 측정

할 수 있어야 한다.

3. X, Y, Z축 Closed-loop Feedback 제어를 적용하여 높은 위치 재현성과 측정 정확도를 제공하여야

한다.

4. XY 스캐너와 Z 스캐너를 독립적으로 구성하여 축간 간섭을 최소화하고 안정적인 이미징이 가능

하여야 한다.

5. 고속 스캐닝을 지원하여 신속하고 안정적인 표면 이미징이 가능하여야 한다.

6. 다음의 이미징 및 분석 모드를 지원하여야 한다.

기본 모드

- Contact Mode

- True Non-contact Mode

- Tapping Mode

- Phase Imaging

- LFM (Lateral Force Microscopy)

- FMM (Force Modulation Microscopy)

- EFM (Electrostatic Force Microscopy)

- KPFM (Kelvin Probe Force Microscopy)

- Sideband KPFM

- PFM

- PinPoint Nanomechanical Mode

- MFM (Magnetic Force Microscopy)

- Nano-indentation

옵션 설치시 가용 모드

- CR-PFM / DFRT-PFM

- Force-Distance Curve

- C-AFM (Conductive AFM)

- SCM / SSRM

- Nano-lithography

- STM (Scanning Tunneling Microscopy)

- EC-AFM (Electrochemical AFM)

- SICM / SICM-SECM

※ 주요 기능 중 추가 옵션 장착 시 지원 가능한 것을 납품 후 교육시 설명 하여야 함.

Ⅱ. 장비 요구 구성

Active Vibration Isolation System 및 Acoustic Enclosure를 기본 구성에 포함하여 장비 설치 환경에

서 발생할 수 있는 진동, 소음 및 외부 환경 영향을 최소화할 수 있어야 한다. 또한, Controller PC, 데

이터 처리 소프트웨어 및 이미지 분석 소프트웨어를 포함하여 장비 운용에 필요한 시스템을 기본 제

공하여야 하며, Electrochemical Cell과 Potentiostat/Galvanostat의 연결에 필요한 케이블 및 부속품 일

체를 포함하여 즉시 측정이 가능하여야 한다. 아울러, 장비 운영에 필요한 사용자 매뉴얼과 관련 부속

품을 함께 제공하여야 한다.

A. 주장비(Main System)

1. 기본구성(Main System)

- AFM 컨트롤러 / 데이터 처리 시스템 1 set

- 최대 50㎛ x 50㎛ 수평(XY) 스캐너 : Closed-loop Feedback 제어 1 set

- 최대 15㎛ 수직(Z) 스캐너 1 set

- 20mm 고정밀도 모터 수평(XY) 스테이지 1 set

- 고해상도디지털 CCD 카메라 : 디지털 줌 가능 1 set

- SmartScan 데이터 수집/분석 및 측정지점 자동화 측정 소프트웨어 1 set

- SmartAnalysis 화상 이미지 처리 소프트웨어 1 set

- 실시간 CCD 카메라 영상 이미지 표현 1 set

B. 부속장비(Sub System)

1. Non Contact Silicon Cantilever 10 개

2. X, Y, Z 표준시료 1 개

3. Sample Disk 10 개

4. Enhanced EFM(EFM, KPFM, PFM 사용 가능) 1 set

5. Liquid Probehand 1 개

6. Electrochemistry(EC) Cell 1 set

7. Potentiostat/Galvanostat 1 set

8. Acoustic Enclosure 1 set

9. Active Vibration Isolation System 1 set

10. Connection Cable 및 설치 부속품 일체 1 set

11. 사용자 매뉴얼(국문 및 영문) 1 set

Ⅲ. 성능 및 규격 제안

1. 이미징 성능

1) 다양한 측정 환경(대기, 액상, 진공)에서 안정적이고 재현성 있는 이미징이 가능하여야 한다.

2) Z축 분해능은 0.01 nm 이하이어야 한다.

3) Out-of-plane Curvature는 1 nm 미만(40㎛ 측정영역 기준, 소프트웨어 보정 없이)이어야 한다.

2. 기본장비 사양

1) Controller System

- Processor : Intel Core i5급 이상

- Memory : 16 GB 이상

- Storage : SSD 512 GB 이상

- Operating System : Windows 11 Professional 이상

- X/Y/Z축 Closed-loop Feedback 제어

- DSP Controller(600 MHz 이상)

- 20-bit DAC 및 24-bit ADC 이상

- TCP/IP 통신 지원

- Dual Monitor 포함

2) AFM Stage / Scanner

- 최대 시료 크기 : 100 × 100 mm 이상

- 최대 시료 두께 : 20 mm 이상

- 최대 시료 중량 : 500 g 이상

- Motorized XY Stage : 20 × 20 mm 이상

- XY Scan Range : 50 × 50 ㎛ 이상

- Z Scan Range : 15 ㎛ 이상

- X/Y/Z축 Closed-loop Feedback 제어

- SLD(830 nm) 레이저 검출 방식

- Cantilever Resonance Frequency : 5 MHz 이상

- CCD Video Microscope 포함

3) 시스템 성능

- X/Y/Z축 Closed-loop Scan Control

- Auto Tip Approach 기능

- Cantilever 간편 교체 기능

- 다양한 규격의 Cantilever 사용 가능

- Step-and-Scan 기능 지원

- Adaptive Scan 기능 지원

4) 소프트웨어

- 데이터 수집 및 분석 기능

- 실시간 Tilt 및 Curvature 보정

- 2D·3D 이미지 분석

- Roughness, Grain Size, Histogram 분석

- Fourier Spectrum 분석

- 저장 형식 : PNG, JPEG, TXT

- 최대 4096 × 4096 Pixel 지원

- 한글 지원

* 측정 이미지 크기(pxl): 64x64, 128x128, 256x256, 512x512, 1024x1024, 2048x2048, 4096x4096

5) 진동 차단 시스템

- Active Vibration Isolation System

- 진동 차단 주파수 : 1 ~ 1,000 Hz

- 진동 차단 성능 : -40 dB 이상

- Acoustic Enclosure 포함

- 압축공기 없이 운용 가능

3. 필수 이미징 모드

1) Phase Imaging

- Topography 및 Phase 동시 측정

- True Non-contact Mode 지원

- Phase Resolution : ±0.01° 이하

- Amplitude Spectroscopy 지원

2) Lateral Force Microscopy (LFM)

- Topography와 Lateral Force 동시 측정

- Contact Mode 지원

3) Force vs. Distance Curve / PinPoint Nanomechanical Mode

- Force-Distance Curve 측정

- 임의 위치 Force Curve 측정

- PinPoint Nanomechanical Mode 지원

4) EFM / KPFM / PFM

- EFM, KPFM, Sideband KPFM 지원

- PFM, CR-PFM, DFRT-PFM 지원

- Lock-in Amplifier 적용

- Topography와 동시 측정

- 주파수 범위 : DC ~ 3 MHz

5) Liquid Probe Holder

- 액상 환경 측정 지원

- PEEK 재질

- 사용 가능 pH : 5 ~ 9

6) Electrochemical Cell

- 4전극 방식

- PEEK Cell Body 및 FFKM O-ring 적용

- 시료 크기 : Ø12 ~ 38 mm

- 최대 시료 두께 : 5 mm

- 최소 작동 부피 : 2 mL

7) Potentiostat/Galvanostat

- Linear Scan Voltammetry(LSV)

- Cyclic Voltammetry(CV)

- Chronoamperometry(CA)

8) Nano Indentation

- Tip Stiffness : 350 N/m

- Load Resolution : 1 nN

- 최대 이동거리 : 12 ㎛

9) Force Modulation Microscopy(FMM)

- 시료의 기계적 강성 측정 지원

10) Step Scan

- 사용자 지정 위치 기반 자동 측정 기능 지원

Ⅳ. 기타 조건

1. 보증

1) 장비 검수 완료일로부터 1년 이상의 무상보증을 제공하여야 한다.

2) 무상보증 기간 동안 장비의 정상적인 사용 중 발생한 고장에 대하여 무상 수리 및 부품

교체를 지원하여야 한다.

2. 장비 설치 및 검수

1) 장비 설치 전 설치 장소에 대한 진동, 소음 및 설치 환경을 사전 점검하여야 하며,

필요 시 설치 환경 개선 방안을 제시하여야 한다.

2) 장비는 제조사 또는 제조사에서 인증한 전문 기술자가 직접 설치 및 성능 검수를

실시하여야 한다.

3) 장비 설치에 필요한 모든 부속품, 케이블 및 소모품은 공급자가 제공하여야 한다.

3. 교육

1) 장비 설치 완료 후 사용자 교육을 설치 장소에서 사용자와 일정 조율 후 실시하여야 한다.

2) 장비의 운용, 유지관리 및 기본 데이터 분석에 대한 교육을 포함하여야 한다.

3) 교육에 필요한 매뉴얼(국문 또는 영문)을 제공하여야 한다.

4. 기술지원 및 A/S

1) 제조사 또는 공식 공급사의 전문 엔지니어를 통한 기술지원을 제공하여야 한다.

2) 장비 장애 발생 시 신속한 원인 분석 및 유지보수 서비스를 제공하여야 한다.

3) 장비 운용에 필요한 소프트웨어 업데이트 및 기술지원을 제공하여야 한다.

5. 제출 서류

1) 장비 설치 완료 후 시험성적서 또는 성능검사 결과를 제출하여야 한다.

2) 장비 사용설명서 및 유지관리 매뉴얼을 제공하여야 한다.

6. 기타

1) 본 규격서에 명시되지 않은 사항이라도 장비의 정상적인 설치 및 운용에 필요한 사항은

공급자가 포함하여 제공하여야 한다.